溫馨提示×

您好,登錄后才能下訂單哦!

密碼登錄×
登錄注冊(cè)×
其他方式登錄
點(diǎn)擊 登錄注冊(cè) 即表示同意《億速云用戶(hù)服務(wù)條款》

power-plan的影響因素有哪些

發(fā)布時(shí)間:2021-12-22 16:07:31 來(lái)源:億速云 閱讀:188 作者:柒染 欄目:互聯(lián)網(wǎng)科技

本篇文章給大家分享的是有關(guān)power-plan的影響因素有哪些,小編覺(jué)得挺實(shí)用的,因此分享給大家學(xué)習(xí),希望大家閱讀完這篇文章后可以有所收獲,話(huà)不多說(shuō),跟著小編一起來(lái)看看吧。

Power-Plan或者說(shuō)PG如何打,這是一個(gè)仁者見(jiàn)仁智者見(jiàn)智的問(wèn)題,沒(méi)有一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的答案,因?yàn)橛懈鞣N各樣的影響因素。下面將列舉一些可能的影響因素:

和design相關(guān)

  • 如果design的utilization很低,那就能打多密就打多密。utilization很高,打PG的時(shí)候就得考慮會(huì)不會(huì)讓信號(hào)線走線變得困難,即產(chǎn)生congestion或者DRC。

  • 對(duì)于同樣的utilization,同樣的PG結(jié)構(gòu),交換機(jī)模塊的congestion肯定比其他模塊的congestion大。所以對(duì)于這種特殊的模塊,就得仔細(xì)調(diào)整PG的結(jié)構(gòu)。

  • 對(duì)于功耗要求不同的design,如手機(jī)芯片和電腦芯片,因?qū)牡囊蟠蟛灰粯?,所以PG結(jié)構(gòu)也大不一樣。

和sign-off標(biāo)準(zhǔn)相關(guān)

  • sign-off標(biāo)準(zhǔn)包括static-IR-drop和dynamic-IR-drop,不同的design對(duì)這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)要求不一樣,基于不同的標(biāo)準(zhǔn),對(duì)PG結(jié)構(gòu)的要求也不同。

  • sign-off的時(shí)候需要根據(jù)某個(gè)工作場(chǎng)景的activity 文件,進(jìn)行功耗跟IR分析,常用的activity文件格式有:VCD (Value Change Dump file) , FSDB, SAIF(Switching Activity Interchange Format)。即使同一個(gè)design,不同工作場(chǎng)景的activity文件產(chǎn)生的IR-Drop也大不一樣。

先入經(jīng)驗(yàn)

  • 一般PG結(jié)構(gòu)的選擇是基于先前的項(xiàng)目經(jīng)驗(yàn)。但隨著工藝不斷進(jìn)步,之前的經(jīng)驗(yàn)并不一定是最優(yōu)化的也不一定適用于當(dāng)前工藝。

  • 40nm工藝以上一般只用M1做rail,但是在先進(jìn)工藝下,M1的電阻率比較高,由M1造成的IR-drop比較大,而且占主要的因素。所以可能就需要M2也作為rail,所以先入經(jīng)驗(yàn)要隨著工藝的改進(jìn)做調(diào)整。

和選擇的工藝和金屬層數(shù)有關(guān)

  • 不同的工藝,pitch和width大不一樣,采用LVT或者HVT等造成的功耗也大不一樣,不能直接像工藝尺寸一樣簡(jiǎn)單的shrink。

  • 即使同一種工藝,也可以選擇不同數(shù)目的金屬層。少一層金屬就省一層mask,就省一筆錢(qián)。比如40nm工藝,如果選用8層金屬,流片一次可能需要100W,如果選用7層,流片一次則需要95W。單看可能差別不是很大,但是如果量很大很大,節(jié)省的成倍就十分可觀了。

  • 選擇不同的金屬層,PG結(jié)構(gòu)自然不同。

對(duì)PG進(jìn)行微調(diào)

PG怎么打,這是每個(gè)公司的機(jī)密,作者也不能講很多,一般是先初略的打一版看,然后在signoff工具中看看結(jié)果,再基于該結(jié)果和congestion的情況再進(jìn)行調(diào)節(jié)。下面講講對(duì)給定的PG結(jié)構(gòu),在保證同樣的IR-drop的情況下,如何通過(guò)微調(diào),來(lái)省出更多的繞線資源,減小congestion或者基于同樣congestion的情況下,可以額外的增強(qiáng)PG結(jié)構(gòu),降低IR-drop。

微調(diào)的原理是什么?

在新工藝下signal-routing都是在track上走線的,不會(huì)發(fā)生在半track上走線的情況。例如下面畫(huà)了4個(gè)track,2條走線。在老的工藝下,完全沒(méi)問(wèn)題,想咋走咋走,只要滿(mǎn)足min-spacing就好了。但是在新的工藝下,就得規(guī)規(guī)矩矩的,每條走線都必須在track上(這里只是說(shuō)signal-routing必須在track)。

power-plan的影響因素有哪些

必須在Track上有幾個(gè)方面的原因吧:

  • spacing是一個(gè)離散的值。在老的工藝下,無(wú)限長(zhǎng)且平行的兩條走線,只要spacing是大于某個(gè)值的就沒(méi)問(wèn)題,可以是任意的浮點(diǎn)數(shù)。但是在新的工藝下,大于某個(gè)值不準(zhǔn)確,spacing是一個(gè)離散的值。例如spacing的表格是0.1,0.2,0.3,如果spacing小于0.3,那么只能選0.1和0.2兩個(gè)值,如果spacing大于0.3,則可以是任意浮點(diǎn)數(shù)。

  • width也同理,也是一個(gè)離散的值。

  • 很多DRC規(guī)則都是基于這種離散的值的,不僅僅是這種簡(jiǎn)單的spacing/width,所以p不僅僅是違反了這一條,后面還有更多的DRC等著你。

  • 新的工藝都采用了double-pattern,走線不在Track上,后面在分不同mask的時(shí)候會(huì)有問(wèn)題。

上面說(shuō)到走線必須都在track上,更準(zhǔn)確的說(shuō)法是為了減少各種可能的DRC,工具走signal-routing的時(shí)候都在track上,因?yàn)镻R工具看不到所有sign-off的DRC-rule,所以不能也不敢亂走。我們自己打PG的時(shí)候還是可以隨便打,只要沒(méi)有DRC違規(guī)就可以了。

這些因素雖然不會(huì)影響IR-drop,但是卻可以通過(guò)調(diào)節(jié)這些因素,能夠減小congestion或者基于同樣congestion的情況下,可以額外的增強(qiáng)PG結(jié)構(gòu)。

下面就舉一個(gè)例子,例子中的數(shù)據(jù)都是作者隨便取的,不具有代表性。

1

原始結(jié)構(gòu)    

假設(shè)原始的PG如下圖所示,中間寬的是PG,兩邊的是信號(hào)走線。

power-plan的影響因素有哪些

我們來(lái)分析分析這個(gè)圖:

  • PG在Track上,沒(méi)問(wèn)題

  • 取的寬度占用了3個(gè)track,沒(méi)問(wèn)題

但是,由于各種DRC,額外的2個(gè)Track其實(shí)也不能用,其實(shí)PG占用了5個(gè)track。浪費(fèi)!

 

 2

優(yōu)化方案一    

我們就來(lái)進(jìn)行一下優(yōu)化:既然要占5個(gè)Track,干脆PG再寬點(diǎn)不更好嗎?

而且PG可以不需要非得在track上,可以在track中間。例如下圖所示,不僅加寬了PG,而且居然還能省一個(gè)Track!

power-plan的影響因素有哪些

 

 

優(yōu)化方案二

如下圖所示,干脆就不要用uniform-track,直接創(chuàng)建non-uniform-track。仍然是用同樣的PG寬度,但是卻省下了不少的繞線資源。

power-plan的影響因素有哪些

以上就是power-plan的影響因素有哪些,小編相信有部分知識(shí)點(diǎn)可能是我們?nèi)粘9ぷ鲿?huì)見(jiàn)到或用到的。希望你能通過(guò)這篇文章學(xué)到更多知識(shí)。更多詳情敬請(qǐng)關(guān)注億速云行業(yè)資訊頻道。

向AI問(wèn)一下細(xì)節(jié)

免責(zé)聲明:本站發(fā)布的內(nèi)容(圖片、視頻和文字)以原創(chuàng)、轉(zhuǎn)載和分享為主,文章觀點(diǎn)不代表本網(wǎng)站立場(chǎng),如果涉及侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系站長(zhǎng)郵箱:is@yisu.com進(jìn)行舉報(bào),并提供相關(guān)證據(jù),一經(jīng)查實(shí),將立刻刪除涉嫌侵權(quán)內(nèi)容。

AI